Tlenowa maska oczyszczająca do twarzy z Complex Acid+ zawiera naturalne kwasy. Działają jak peeling, złuszczają martwe komórki skóry, oczyszczają pory i zapewniają dostęp tlenu do głębszych warstw skóry. Węgiel w masce pochłania zanieczyszczenia i usuwa toksyny. Maska PShhh ma efekt matujący, wyrównuje ton. Po zastosowaniu oczyszczającej maski tlenowej może być odczuwalne lekkie pieczenie. Nie zaleca się nakładać na skórę z podrażnieniami i uszkodzeniami.
* Skład preparatu obejmuje kwasy owocowe (alfa-hydroksykwasy, ANA): glikolowy, mlekowy, jabłkowy, winowy.
Zastosowanie: maska z kwasami AHA działa jak peeling i może powodować krótkotrwałe zaczerwienienie i lekkie pieczenie, które całkowicie znikają w kolejnych etapach pielęgnacji skóry; unikać kontaktu z oczami; nie stosować na uszkodzoną, podrażnioną lub zaognioną skórę; tylko do użytku zewnętrznego; trzymać z dala od dzieci; przechowywać w temperaturze pokojowej; nie używać ponownie.
1. Oczyść skórę z makijażu.
2. Rozłóż maskę i nałóż ją na twarz przez 10-15 minut.
3. Zdejmij maskę i masuj twarz delikatnymi ruchami okrężnymi.
4. Opłucz twarz wodą.
Składniki INCI:Water,Glycerin,Polyglycerin-6,Sea Silt Extract,Sodium Cocoyl Alaninate,Trehalose,Ethyl Perfluorobutyl Ether,1,2-Hexanediol,Pentylene Glycol,Lauryl Glucoside,Saccharide Isomerate,Sucrose,Urea,Tartaric Acid,Caprylyl Glycol,Parfum.
Objętość:25g
Kraj pochodzenia: CHRL
Nikt jeszcze nie napisał recenzji do tego produktu. Bądź pierwszy i napisz recenzję.
Tylko zarejestrowani klienci mogą pisać recenzje do produktów. Jeżeli posiadasz konto w naszym sklepie zaloguj się na nie, jeżeli nie załóż bezpłatne konto i napisz recenzję.
